技术编号:8046202
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属于电子器件散热技术,特别是一种。背景技术射流冲击冷却的原理是流体通过一定形状的喷嘴(圆形或狭缝形)直接喷射到被冷却表面,由于流程短,流速高,在射流面上形成很大的压力,使射流冲击驻点区附近的边界层变得很薄,因而具有极高的换热效率,相比于常规的对流换热技术,射流冷却技术的冲击换热系数要高几倍甚至是一个数量级。虽然单相阵列射流换热具有较高的对流换热系数,在高热流密度条件下的散热有着很大的优势。当电子器件具有极高的热流密度时(lOOW/cm2及以上),单相阵列射流冲击冷却同样不能达到散热的需求,电子器件温度...
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