技术编号：8047147
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属于单晶金刚石制备技术领域，特别是提供了一种；利用掠射直流等离子体的层流边界层环境，制备单晶金刚石。背景技术化学气相沉积大尺寸单晶金刚石自2002年被报导以后(C. Yan等，Proc. Nat. Acad. Sci. 99 (2002) R25-27)，在世界范围内得到了广泛的关注和跟进研发，其中以微波等离子体增强化学气相沉积技术(Q. Liang，等，Diamond & Related Materials 18 (2009) 698-703)和直流等离子体增强化学气相沉积技术(G. C. ...
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