技术编号:8048186
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及低温等离子体产生及控制领域,具体地,本发明涉及一种离子产生装置。背景技术等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态,广泛的应用于等离子体冶炼、等离子体喷涂和等离子体焊接领域中具有广泛的应用,其中等离子体的离子产生方法包括1.射频电离等离子体源,应用高温等离子体,等离子体波研究等。2.电子回旋共振等离子体源。3.微波等离子体源,应用低温等离子体,空间环境模拟,等离子体天线等。 4.束-等离子体离子源,利用的是在阴...
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