技术编号:8048343
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明是关于锗衬底的生长方法以及锗衬底,特别涉及具有高晶体质量的锗衬底的生长方法以及锗衬底。背景技术芯片制造业仍遵循摩尔定律向450 mm大尺寸晶圆、纳米级光刻线宽、高精度、高效率、低成本方向发展。2004年以来,很多国际顶级半导体厂商纷纷采用90 nm工艺生产集成电路IC芯片,90 nm制程的启动,标志着芯片制造业已进入100 nm至0. 1 nm尺度范围内的纳米技术时代。但在进一步提高芯片的集成度、运行速度以及减小集成电路的特征尺寸方面遇到了严峻的挑战,现有的材料和工艺正接近它们的物理极限,因此必须在材...
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