技术编号：8058300
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种真空材料蒸发室。背景技术 一表面的洁净度或一沉积薄膜的纯度等级在一些技术领域例如纳米技术、催化化学、生物技术中是基本要求。例如，在所涉及对象为几纳米至几微米数量级的纳米技术中，只有当薄膜以及其上形成有这些薄膜的基底不受任何污染时，才能理解诸如所述薄膜的生成/生长(growth)、所述薄膜中的光诱导反应之类的现象。在半导体领域中，薄膜的生成不能有杂质并因此不能在无意间掺杂也是基本要求。将已知量的纯净材料沉积到半导体表面上对形成金属半导体结和半导体异质结构确实尤其重要。金属半导体结可在半导体装置的...
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