技术编号:8062199
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及在使用电子束蒸镀法、离子电镀法等真空蒸镀法制造例如等离子体显示板(以下,称为"PDP")用保护膜时 被用作蒸镀源的单晶氧化镁(MgO),以及用于得到用于形成 例如氧化物超导体薄膜的单晶MgO基板的单晶MgO及其制造 方法。背景技术利用了放电发光现象的PDP,其作为易大型化的平面显示 器的开发正在进行。透明电极被玻璃电介质覆盖着的结构的AC 型PDP,为防止由于离子冲击的溅射而导致的电介质表面变质、 放电电压升高,通常在该电介质上形成保护膜。该保护膜要求 具有低的放电电压、耐溅射性优异。作为满足所述...
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