技术编号：8069990
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本发明提供一种改进等离子体分布的等离子体反应器，在所述封闭壳体内的所述基片支撑装置上方和所述气体注入器下方设置中心挡板和边缘挡板，可以同时对从气体外围喷口和中心喷口处注入反应腔的气体进行限制和/或引导，以根据反应工艺需要对反应气体进行均匀性分布控制。所述中心挡板和边缘挡板的结构、尺寸、位置可以有多种变形实施例，本领域技术人员可以根据实际工艺需要选择合适的挡板。专利说明一种改进气体分布的等离子体反应器技术领域[0001]本发明涉及等离子体反应器，特别是涉及电感耦合反应器中的气体均一分布的设计。背景技术[000...
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