技术编号:8071611
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要一种稳定使用BOE腐蚀SiO2的缸体设计,所述缸体设计中湿法腐蚀区主要包括缸体部分和图形掩膜制备用特制腐蚀支架;其中缸体部分包括高、低温酸性溶液腐蚀槽;BOE腐蚀槽;去离子水清洗槽;所述BOE腐蚀槽放入现有高温腐蚀设备中,使图形掩膜腐蚀和湿法腐蚀完美结合,对湿法腐蚀过程进行了整合;所述图形掩膜制备用腐蚀支架,为非固定在设备上的、独立的、设备配套的个体;腐蚀支架由腐蚀托盘及托盘支架组成。通过对缸体的设计改造,能够稳定使用BOE腐蚀SiO2的工艺,为提高外延生长晶体质量提供PSS产品。专利说明 一种稳定使用BO...
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