技术编号:8085443
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本实用新型公开了一种能够使铸锭的电阻率均匀分布的多晶硅铸锭炉。通过在多晶硅铸锭炉的进气管的出气口处设置将其密封的挡块,所述挡块上设置有多个旋向相同的螺旋孔,所述多个螺旋孔围绕进气管的中心轴线排列,所述螺旋孔的进口位于挡块的上表面,出口位于挡块的下表面,当氩气经过螺旋孔后,氩气的出气方式被改变,由原来的直吹改为旋转出气,从螺旋孔旋转喷出的氩气会带动坩埚内的硅液旋转,从而使硅液中含有的杂质在硅溶液中得到充分扩散,使液相成分分布均匀,保证铸锭的电阻率分布均匀,而且坩埚内的硅液被搅动,可以促使硅液中含有的可挥发杂质...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。