技术编号：8095590
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属于一种化学机械抛光用抛光液，特别涉及单晶氧化镁基片化学机械抛光用的抛光液领域。 背景技术目前，氧化镁基片是高频微波器件高温超导薄膜最常选用的主要衬底材料之一， 也是当前可实现产业化的重要的高温超导薄膜基片。研究表明，抛光后氧化镁基片表面粗 糙度值以及表面缺陷会对沉积的钇钡铜氧化物(YBC0)薄膜的形态和性能有很大影响。在 表面粗糙度小于lnm和大于1. 6nm的氧化镁基片表面上沉积的YBC0薄膜，其临界电流密度 Jc值要相差2 3倍；在有划痕的氧化镁基片表面上沉积的薄膜也会导致Jc值显著降低。 因此...
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