技术编号：8117996
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本实用新型公开了一种纳米级金属电磁屏蔽膜，属于电磁膜制造领域。其包括载体层(1)、第一屏蔽层(2)和绝缘层(3)三层结构，所述的第一屏蔽层为导电油墨层或磁控溅射镀层；所述载体层、第一屏蔽层和绝缘层由下至上依次叠设，所述载体层表面覆设第一屏蔽层，所述第一屏蔽层表面覆设绝缘层。本实用新型提供了纳米级金属电磁屏蔽膜，采用印刷加工或磁控溅射方式，结构加工方便，可以满足现有大多数电子设备产品越来越轻薄化，电子元器件堆积越来越多，窄小的空间里出现电磁干扰状况越来越多的要求，而且本产品屏蔽效果好，成本低廉，效果明显。专利...
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