技术编号:8119013
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种等离子枪与应用其的等离子处理设备,且特别是有关 于一种具有等离子喷嘴的喷射式等离子枪与应用其的等离子处理设备。背景技术在半导体产业蓬勃发展之下,各式制备方法及设备亦多元地被开发与使用。等离子可在基材的表面上进行表面清洁、表面蚀刻、深蚀刻(trench etching)、薄膜沉积及表面成分改变等等。等离子处理设备例如是等离子 清洗设备(plasma cleaning)、等离子辅助化学气相沉积(plasma enhance chemical vapor d印osition, PECVD)、等离子辅...
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