技术编号：8119837
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种振动场下晶体生长的装置及其生长方法，属于材料科学领域。體絲熔体晶体生长是一种重要的晶体生长技术，是制备优质半导体和激光介质 晶体的一种主要手段，在现代科学技术应用中具有举足轻重的地位。晶体生长 过程实质上是热量输出、质量输运以及界面生长过程的动态耦合效应，这种输 运过程受限于晶体生长过程中的对流效应。为了研究晶体生长的机制和改善晶体生长工艺，提高晶体质量，把流体力 学的理论应用到晶体生长的研究中，近年来对晶体生长过程中对流效应的研究 相当活跃。一般而言，熔体中的对流是晶体生长中能量和质量的主要...
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