技术编号：8120012
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及微电子技术，特别是涉及 一 种能够精确监测负载状态的阻抗 匹配器。背景技术在典型的用于制造半导体器件的射频等离子体发生装置中，恒定输出阻抗(通常为50Q )的射频电源产生固定频率(通常为13.56MHz)的射频波， 向等离子体反应室提供射频功率，以将等离子体反应室内的气体激发为用于 刻蚀或其他工艺的等离子体。 一般而言，等离子体反应室的非线性负载的阻 抗与射频电源的恒定输出阻抗并不相等，因此在射频电源和等离子体反应室 之间存在严重的阻抗失配，使得射频传输线上存在较大的反射功率，射频电 源产生的功率...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。