技术编号:8122323
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属于人工晶体材料领域,具体的说是一种高效抗辐射激光晶体及制造方法。背景技术在辐射环境和空间环境中应用的激光器会受到Y射线和宇宙射线等高能粒子的辐射,从而要求激光器具有抗高能射线辐射的能力,因此高效抗辐射激光材料对于辐射环境和空间环境激光技术的发展具有重要的意义。钆钪镓石榴石晶体Gd3Sc2Gii3O12(GSGG)是性能优良的激光工作基质,晶体结构属于立方晶系,可以采用熔体提拉法生长出高光学质量的单晶。aiarikov^Uharikov,et al. Effect of UV—and y-irradi...
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