技术编号:8122791
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种通过将作为处理对象的被处理体包含在真空系统的局部中、并将等离子体引导到该被处理体的内部来对被处理体的内表面进行成膜处理的等离子体处理装置。背景技术以往提出有使用等离子体在环状构件的内部进行成膜等处理的装置。例如如下处理方法在真空容器内,在将筒状的被加工材料和棒状的靶配置成同心状的装置中,利用通过ECR(Electron Cyclotron Resonance, 电子回^走共l展)共4展在真空容器的端部点火的等离子体,在施加有负偏压的靶的表面形成等离子体衬层,利用由该等离子体衬层产生的等离子体粒...
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