技术编号：8137048
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种在形成具有多个交叉单元的网孔图形中使用的用于胶印的移印版(cliche)及使用该移印版制备的产品，更具体而言，涉及一种设计用于解决在网孔图形的交叉单元周围产生的线宽度变细的现象的用于胶印的移印版，以及使用该移印版制备的产品 ο背景技术一般而言，光刻法已经在相关技术领域(例如显示器和半导体领域)中用于形成精细的图形。然而，由于使用光刻法形成精细图形需经过光刻胶涂布-曝光-显影-刻蚀-剥离步骤，该方法通常很复杂，消耗大量的原料(如光刻胶等)，并且在显影和刻蚀过程中产生废液，因而产生了与废液的处理的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。