技术编号:8139733
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种通过位于真空容器的真空室中的感应线圈产生等离子体的方法,以及适于实施本发明的方法的装置。本发明还涉及本发明方法的应用,即用于提供具有可能的活性涂层的基体,或者用于在该基体上进行可能的活性蚀刻。背景技术 当在真空中对基体进行活性处理时,例如生产半导体的情况,通常使用在真空容器的真空室中产生的等离子体进行多个处理步骤,合适的例子是对基体进行可能的活性涂覆或者对基体进行可能的活性蚀刻。关于这一点,已知等离子体可以通过感应或电容装置产生。例如EP0271341A1描述了用于干法刻蚀半导体盘的装置,其包...
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