技术编号：8141083
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属于电子显示技术领域，适用于电致发光、液晶和等离子体矩阵显示器中ITD或SnO2条状电极制备，也可用于其它种类(如印刷电路板)矩阵显示器条状电极制备。目前通用的ITD或SnO2条状电极制备是采用光刻的方法。这种方法采用聚乙烯醇或水溶性抗蚀干膜作为掩膜物质，然后通过预先制好的掩膜版暴光，使被暴光的聚乙烯醇等物质发生光学反应而形成不溶于水的牢固保护膜，最后再通过腐蚀，去掉不需要的ITD或SnO2导电层，即未暴光的抗蚀干膜，获得所需要的ITD或SnO2导电层图案。这种方法整个工艺包括绘图-制版-甩胶(贴膜)...
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