技术编号:8145039
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及微电子技术领域,具体地,涉及一种介质窗、应用该介质窗的电感耦合线圈组件及等离子体处理设备。背景技术近年来,微电子加工技术取得了空前的成就。在微电子产品的生产过程中,需要频繁使用等离子体处理设备对基片进行各种加工工艺。目前,在众多等离子体激发方式中,电感耦合等离子体技术较为常用。该技术借助电感耦合线圈向工艺腔室中施加一定的射频功率,用以将工艺腔室内的工艺气体电离成等离子体状态,然后借助该等离子体对基片进行相应的加工工艺。可见,上述电感耦合线圈的结构及安装精度等因素将对等离子体的分布均勻性起到非常关键...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。