技术编号:8159330
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及ー种电浆产生装置,且特别涉及ー种具有均匀流场分布的电浆产生装置,其通过扰流単元与扰流单元的设置,腔体内能提供较均匀的电浆密度,进而提升制程稳定度。背景技术在今日半导体制程技术中,电浆可进行非常有效的电浆辅助化学气相蒸镀、plasma-assisted chemical vapor deposition)、电架袖助蚀刻(,plasma-assisted etching)、以及电衆高分子化(plasma polymerization)等薄膜制程及蚀刻工作。而现今多种产业皆运用到电浆制程技术,如太阳...
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