技术编号:8163603
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种在对玻璃基板或半导体基板等被处理物供给湿式处理液,实施清洗、剥离、显像、蚀刻、镀膜、研磨等湿式处理时,可用于对湿式处理液施予超声波振动的超声波振动装置及采用该装置的湿式处理装置。背景技术 作为清洗装置的一种已知有带有超声波振动装置的清洗装置,此方式的清洗装置称为超声波清洗装置。图14是表示以往的超声波清洗装置例的概略构成图(例如,参照专利文献1。)。该超声波清洗装置,具有能适合装入纯水或清洗液等处理液101并可收容被处理物的处理槽103和粘在该处理槽103底面的振子105。上述处理槽103兼作...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。