技术编号：8174953
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型属于晶体硅太阳能电池制造领域，涉及一种适用于槽式多晶硅制绒的双层匀流板。背景技术在半导体硅和太阳能电池制造中，槽式湿法制绒工艺是对晶体硅片表面进行湿法蚀刻，形成微沟、绒面，降低硅片表面的反射率，从而使太阳光在硅片表面进行多次反射，以提闻光的利用率。在多晶硅太阳能电池的制备工艺中，目前大多数厂家都是采用价格不菲的进口链式制绒设备，原因是市面上的槽式多晶制绒设备还存在几个大的问题(1)很难保证制绒后硅片表面绒面的大小及均匀性，这样当电池制作进行到镀膜工序时，由于绒面的不均匀会导致镀膜后出现明显的色差，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。