技术编号：8175568
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。实现高效等离子阱的方法和装置背景技术等离子处理由于制造企业试图在半导体工业中4呆持竟争力而 继续发展。为了获得竟争优势，实现各种方法和装置以增加在基片 处理中使用的等离子的量以生产没有缺陷的器件。一种表现出持续希望的发展是在等离子处理机器中使用新的 和不同的几何图形。在一种尝试中4吏用不同的几<可图形，如长直等 离子管和盘旋等离子管，以充分吸收微波功率或者将吸收的樣"皮功 率转换为有用的等离子物质。为了便于讨论，附图说明图1示出现有4支术中的盘旋等离子管总成的简化图。可在等离子管102内经过一种或多 种气体(...
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