技术编号:8184392
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明属薄膜制备技术领域,具体涉及一种可图形化、表面均匀的薄膜制备方法,特别涉及一种。背景技术 目前,传统的薄膜制备技术,在行业中得到广泛应用的一般有真空镀膜、光刻、离子束刻蚀、丝网印刷、化学气相沉积(CVD)等方法。但是除了精度不高的丝网印刷等以外,为了制备超精细的薄膜,现有的如光刻、离子束刻蚀技术方法,都存在成本高、步骤复杂、灵活性差等缺点。因此,许多企业和研究机构都在尝试寻求用于制备高性能和超精细的薄膜器件的新技术,以适应于有机发光二极管(OLED)、有机场效应管(OTFT)、彩色滤光片(Color ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。