技术编号：8184975
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及一种扩散炉炉腔压力自动平衡控制系统。背景技术扩散炉是半导体工艺中的一种重要设备，其原理是在高温和一定压力下将某些微量元素(如磷、硼等)掺杂到硅片上，形成PN结。在扩散工艺中，为了形成良好的PN，需要保证扩散炉炉腔内温度场和气场的稳定。目前，扩散炉气场的稳定主要是通过保证炉腔内气体压力的恒定来实现，现有的常用炉腔压力控制系统包括进气质量流量控制器和排气质量流量控制器，控制方式主要有以下两种第一种方法就是通过设定进气压力和流量来保证炉腔气体压力，但是炉腔气体压力还会受到炉腔温度、尾气压力等因素的影...
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