技术编号:8191553
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及向进行等离子体处理的腔室内导入微波的微波导入机构、使用这样的微波导入机构的微波等离子体源,和微波等离子体处理装置。背景技术半导体设备或液晶显示装置的制造工序中,为了对半导体晶片或玻璃基板这样的被处理基板实施蚀刻处理或成膜处理等的等离子体处理,使用等离子体蚀刻装置或等离子体CVD成膜装置等的等离子体处理装置。最近,作为这样的等离子体处理装置,能够均匀形成高密度、低电子温度的等离子体的RLSA (Radial Line Slot Antenna)微波等离子处理装置受到关注(例如,专利文献I)。·RLS...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。