技术编号：8197715
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及激发等离子体而对基板实施成膜等处理的等离子体处 理装置及处理方法。背景技术例如在LCD装置等的制造工序中，使用如下的等离子体处理装置， 其利用微波在处理容器内激发等离子体，对LCD基板(玻璃基板)实施 CVD处理或蚀刻处理等。作为该等离子体处理装置，已知有如下的装置， 其从微波源通过同轴管或波导管向配置于处理容器的内面的电介质体 供给微波，利用微波的能量使供给到处理容器内的规定的气体等离子体 化。近年来，伴随着基板等的大型化，等离子体处理装置也在变大，然 而在配置于处理容器的内面的电介质体被设为单...
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