技术编号:8197746
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及形成图案的透明电极阵列的制备。通常,本发明涉及透明二维和三维薄膜电极元件的图案形成,特别涉及包含载体和可光致图案形成的导电层的导电薄膜元件的光致图案形成。更具体地讲,本发明涉及含包封在可光固化微囊中的聚合物粘合剂、导电聚合物颗粒、可光致释放的增强导电性或降低导电性的导电性调节剂的导电层和涉及这样的可光致图案形成的薄膜制剂用于提供二维和三维电极阵列目的的用途。背景技术金属氧化物(例如氧化铟锡(ITO)、锑掺杂氧化锡和锡酸镉(氧化镉锡))的透明导电层(TCL)通常用于制造电光显示装置例如液晶显示装置(...
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