技术编号:8198213
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明主要涉及一种碎片防止系统、辐射系统和包括它们的光刻设备。更具体地,本发明涉及构造并布置用以防止从辐射源发射的碎片与辐射一起从辐射源传播进入光刻设备或在光刻设备内部进行传播。背景技术光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上,通常是衬底的目标部分上的机器。例如,可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如,硅晶片)上的目标部分(例如,包括一部分管芯、 一个或多个管芯)上。通常,图案的...
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