β-Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>单晶的制备方法技术资料下载

技术编号:8200391

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技术领域本发明涉及Si3N4单晶的制备方法。 背景技术卩-Si3N4单晶的抗拉强度达30 50GPa,能够耐1400°C以上高温,其晶体 结构决定了 (3-Si3N4单晶可生长成为高长径比的棒状晶,作为陶瓷、金属及塑 料基复合材料的增强相,其强韧化效果可与SiC晶须相比。名称为"自蔓燃合成法制备高(3相氮化硅棒状晶须的方法(中国专利申请 号200710114558.2,申请日2007年12月28日,公开日2008年10月08日)"和名称为"自蔓延高温合成制备(3-氮化硅晶须的方法(中国专利号ZL01126概4,申请...
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