技术编号：8203126
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种等离子系统，且尤其涉及一种具有导入装置的等离子系统。 背景技术等离子技术已发展多年，等离子技术是利用等离子内的高能粒子(电子及离子) 与活性物种对欲处理工件产生镀膜、蚀刻与表面改质等效应，其特性可应用于光电及半导 体产业、3C产品、汽车产业、民生材料业及生医材料表面处理等。以等离子镀膜技术为例，藉由等离子与欲形成薄膜的反应物的混合，可以使得活 化反应物，并且提高基板表面的活性。等离子镀膜技术发展至今，已经已发展出多种等离子 与反应物的混合方式。例如，日本专利第JP2000-121804号专利，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。