技术编号：8203434
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及微电子技术领域，具体地，涉及一种下电极装置及应用该下电极装置 的等离子体处理设备。背景技术随着科技发展，微电子产品已经被广泛地应用于社会生产和生活的各个领域。并 且，随着微电子工业的不断进步，其产品更新换代的速度也在不断提高。为了避免在日益激 烈的市场竞争中被淘汰，相关企业必须不断对自身的生产工艺和加工设备作出改进。目前，在半导体器件的加工/处理过程中广泛采用诸如等离子体刻蚀等的处理技 术进行半导体晶片的生产。所谓等离子体刻蚀技术指的是，使用高功率射频将工艺气体激 发成含有大量电子、离子、激发态的...
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