技术编号：8207659
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及电子束光刻技术。背景技术 已知电子束光刻使得利用可见光或UV光通过影印石版术（photolithography)由 于衍射效应所不能写入或转换的非常小且极其密集的图案可以进行写入或转换。影印石版 术的分辨率极限保持约为所使用的光的波长。电子束光刻的分辨率极限可以约10纳米或 甚至更小，也就是说，理论上它必须可以跟踪包括最小10纳米或甚至更小的宽度和间距的 特征的图案。 这些分辨率对于制造紫外或X-射线衍射光学元件可能是非常有用的。这些衍射 光学...
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