技术编号:8218963
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 磁控姗射在永磁体产生的静磁场作用下,阴极工作时,由于受到辉光放电区域的 限制,祀面磁场平行分量最大的区域电离度增强,电离出的工艺气体离子被限制在一个狭 窄环形的"跑道"上,因此祀面上只有部分区域被集中姗射。姗射后,祀面留下环形"跑道"状 的凹坑,对应祀面上形成一个狭窄的刻蚀区域,随着辉光放电的进行,祀面刻蚀区域呈"V" 形且刻蚀区域越来越狭窄,随着"V"形沟槽逐渐加深,刻蚀会变得更为剧烈,祀材被快速刻 蚀"穿透",特别是在中低真空下姗射时,"v"形更明显...
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