技术编号:8218968
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学、半导体和微电子器件,具体涉及一种氮氧化硅膜材料及其制备方法和用途。背景技术薄膜是一种特殊的物质形态,由于其在厚度这一特定方向上尺寸很小,只是微观可测的量,而且在厚度方向上由于表面、界面的存在,使物质连续性发生中断,由此使得薄膜材料产生了与块状材料不同的独特性能。光学薄膜是由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料,广泛用于光学和光电子,制造各种光学仪器。光学薄膜技术在理论、设计、计算和工艺方面已形成了完整的体系,一些新型微观结...
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