技术编号：8219115
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现有单晶热处理技术只局限于6英寸及以下规格的产品，对于6英寸以上单晶存在以下缺点1、单晶表面积大幅增加，在高温热处理过程中金属沾污的隐患增加，品质控制难度加大；2、单晶直径和体积大幅增加，现有热处理工艺升降温曲线和保温时间难以保证晶体在中子辐照过程中形成的缺陷和损伤完全恢复，继而会对晶体的电参数(少子寿命、电阻率等)造成影响。发明内容本发明克服现有技术的不足，提供了一种大直径NTD单晶热处理工艺。为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是一种大直径NTD单...
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