技术编号：8222878
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明微光刻投射曝光设备本申请是申请日为2009年9月17日且发明名称为“微光刻投射曝光设备”的中国专利申请N0.200980138461.2的分案申请。本发明涉及微光刻投射曝光设备，特别是涉及具有反射镜阵列的这样的装置的照明系统和投射物镜，该反射镜阵列具有基体和布置在基体上的多个反射镜，并且该多个反射镜可以相对于基体倾斜或在它们的排列上以其他方式改变。背景技术集成电路和其他微结构元件通常通过将多个结构层施加到合适的基板(例如，可以是硅晶片)上来制造。为...
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