技术编号：8222880
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及光刻中的自动对准系统，特别是一种接近式纳米光刻中的二维光栅自 动对准系统。属于微细加工制造。背景技术 作为光刻过程中的关键单元技术，对准技术直接决定套刻精度，并最终决定了特 征结构的加工质量。根据摩尔定律，集成电路1C的特征尺寸愈来愈小，接近接触式纳米加 工手段以其操作简单、成本低廉、理论成熟等优点还将得到进一步发展。随着光刻分辨力的 提高，掩模硅片对准的要求也会变得越来越苛刻，势必会成为光刻、微电子行业的突破点和 难点。 现行的对准方法大体可...
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