技术编号:8223019
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于先进制造、自动化和信息领域,具体涉及一种面向半导体生产线光刻 工序调度、。背景技术 本发明所针对的半导体生产线光刻工序调度问题是以总加权流经时间之和为优 化目标、带有机器适配性约束和顺序相关准备时间的单工序调度问题。光刻工序是半导体 生产线的关键工序之一,其调度效果对整个生产线的生产性能指标有较大影响。针对该类 问题,已有的调度方法主要包括精确优化方法、经典人工智能方法、启发式规则和智能优化 方法等。然而,已有调度方法在处理较大规模的上述调度问...
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