技术编号:8248274
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。化学气相沉积(CVD)自支撑金刚石膜具有优异的物理和化学性能,因此在机械加工、热沉领域、光学领域得到广泛的应用,并在其他诸多高有着广阔的应用前景。目前工业化生产自支撑金刚石膜的方法主要有两种 第一种方法是使用一定厚度(一般> 5_)的钼圆片作为基片材料,采用热丝CVD法、直流喷射等离子体CVD法、热阴极等离子体CVD法、微波等离子体CVD法等进行金刚石膜的沉积。当金刚石膜达到所需厚度后结束沉积,冷却过程中金刚石膜和钼基片的收缩量存在较大的差异,会从...
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