技术编号：8253775
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明设及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统，特别设及一种使用双 频激光和衍射光栅的=维位移测量装置。背景技术 近年来，超精密测量已成为世界测量领域的研究热点。考虑到测量范围、精度、系 统尺寸和工作环境等因素的影响，用小体积多自由度的测量方法来实现高精度测量在现代 位移测量中的需求也越来越突出。在半导体加工领域，光刻机中的掩膜台和工件台的定位 精度和运动精度是限制半导体巧片加工线宽的主要因素，为了保证掩膜台和工件台的定位 精度和运动精度，光刻机中通...
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