技术编号:8254676
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。由于半导体芯片和薄膜样品在各领域得到广泛的应用,在实际应用过程中经常受到外部载荷,受到一个动态的应力,并且对于压电薄膜材料,通常通过对其施加动态应力来研宄其性能,因此,对薄膜样品及半导体芯片进行正确有效的施加动态均匀应力具有非常重要的应用价值。然而,目前诸多力学性能测试系统无法满足薄膜类小尺度性能测试要求,现有的测试设备方法复杂、造价昂贵、效率较低且测试不够灵活,而且施加的动态应力不是均匀施加到样品上,因此发明一种用于对薄膜样品施加动态均匀应力的四点法装置...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。