技术编号：8256561
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于光罩制作，涉及一种。背景技术 光罩（Mask)在制程过程中需要经过曝光、显影、蚀刻及除胶等过程，而这些过程 对于产品精度的均匀性、最小线缝线宽值、线条的形状等影响很大。 对于Mask产品的影响有很多因素，例如聚焦（Foucs)大小、能量（Dose)大小、关 键尺寸（CriticalDimension，⑶）补正值、显影（Develop)时间及蚀刻（Etch)时间等等， 每一个参数的改变都会影响产品最终的精度和线条质量。而通常对这些参数的设定都是基...
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