技术编号：8256595
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现代光刻设备以光学光刻为基础，利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂覆有光刻胶的衬底(如硅片)上。它包括一个紫外光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个覆盖光敏光刻胶的衬底。浸没式光刻(Immers1n Lithography)系统通过在投影透镜和衬底之间的缝隙中填充某种高折射率的液体，来提高投影透镜的数值孔径(NA)，从而提高光刻的分辨率和焦深。通常采用的方案是将液体限制在衬底上方和投影装置的末端元件之间的有限区域内...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。