技术编号：8258614
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 随着半导体工业向深亚微米技术节点持续推进，集成电路器件尺寸不断缩小，器 件结构设计愈加复杂。只有通过严格的工艺控制才能获得功能完整的电路和高速工作的器 件。 光学关键尺寸测量技术是当前半导体制造工艺中一种主流的工艺控制技术，其基 本工作原理可描述为（1)建立与器件样品的形貌相对应的理论光谱数据库；（2)通过光学 关键尺寸测量设备获得样品的测量光谱；（3)从理论光谱数据库中寻找与测量光谱最佳匹 配的特征光谱，从而确定该样品的形貌参数。 基于库的光谱匹配方法...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。