技术编号：8262127
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种气体注射单元以及一种包含所述气体注射单元的热处理设备，并且更特别地，涉及一种包含气体注射单元以防止衬底暴露给氧气或杂质的热处理设备。背景技术在液晶显示器以及光电装置的制造中，涉及用于使非晶形多晶薄膜(例如，非晶形多晶硅薄膜)结晶的热处理工艺。此处，如果使用玻璃作为衬底，那么可通过使用激光来使非晶形多晶薄膜结晶。然而，当非晶形多晶薄膜与氧气(O2)反应时，非晶形多晶薄膜可氧化以产生氧化物薄膜，并且还因杂质而被污染或改变性质。图1是根据相关技术的...
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