技术编号:8277918
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。真空镀一一真空溅镀,也可称磁控溅镀,属于高速低温溅镀法,在真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glow discharge)产生的电子激发惰性气体产生氩气正離子,正离子向阴极靶材高速运动,将靶材原子轰出,沉积在塑胶基材上形成薄膜。所谓的低温真空溅镀(Sputtering)表面镀膜处理,主要是在金属、塑胶、玻璃或其他材质表面予以镀膜处理,在一个通电的高真空密闭容器中,注入少许惰性气体(一般...
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