技术编号:8277929
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。CVD是一种在工业生产及科研中广泛应用的一种非常重要的技术方法。CVD过程是指,在一定的温度和压力下,参与化学反应的气体之间或者气体与待沉积物件之间发生化学反应,生成固体膜状物质沉积在物件的表面。相对于湿法化学沉积、磁控溅射等其他方法,采用CVD方法可以获得结构一致、厚度均一的薄膜,广泛适用于合成与制备陶瓷、金刚石薄膜、光电子材料覆膜、特殊复合材料覆膜等。在材料科学领域,二氧化硅被广泛地作为模板材料以及孔结构调控材料,通常用溶胶凝胶法在多孔结构中进行二氧化...
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