技术编号:8283716
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明等离子体处理方法和等离子体处理装置本申请是2011年8月23日提出的申请号为201110249639.X的同名申请的分案申请。本发明涉及对被处理基板实施等离子体处理的技术,特别是涉及对配置于等离子体空间的基板施加离子引入用高频的等离子体处理方法和等离子体处理装置。背景技术在半导体器件或FPD (Flat Panel Display,平板显示器)的制造工艺(process,处理)中的蚀刻、堆积(沉积)、氧化、溅射等处理中,为了使处理气体在比较低的温度...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。